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200 1_ ■a多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析■9duo xiang liu xuan zhuan ou he chang zhi bei Si3N4 ke li wu hua guo cheng liu chang fen xi■b专著■f廖达海，宁翔，吴南星著
210 __ ■a北京■c北京工业大学出版社■d2021.10
215 __ ■a126页■c图■d24cm
330 __ ■a本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程，同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。
333 __ ■a氮化硅陶瓷制备学习者
606 0_ ■a氮化硅陶瓷■x制备
690 __ ■aTQ174.75■v5
701 _0 ■a廖达海■9liao da hai■f(1987-)■4著
701 _0 ■a宁翔■9ning xiang■4著
701 _0 ■a吴南星■9wu nan xing■f(1968-)■4著
801 _0 ■aCN■b人天书店■c20211211
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